真皮乳头与表皮的突起部分(即表皮突)互相镶



应用免疫酶和免疫电镜等技术检查LC数量、密度以及结构的变化,可探讨LC与皮肤病的关系以及外界因素对皮肤LC的影响。包括:

1.观察外界因素对LC的影响观察化学因素(如氮芥)、紫外线、X线及冷冻等因素对LC密度和结构的影响。

真皮乳头与表皮的突起部分(即表皮突)互相镶


2.观察疾病情况下LC的数量和密度变化如蕈样肉芽肿、扁平苔藓、玫瑰糠疹、硬化萎缩性苔藓、疣状皮结核、白癜风和斑秃等皮肤病中LC增加。原发刺激性接触性皮炎中LC数量减少,而变应性接触性皮炎中LC数量增加。皮损内LC减少的疾病有:麻风、红斑狼疮、结节病、AIDS、移植物抗宿主病,皮肤癣菌病等。此外,银屑病皮损处,LC分布不均,甚至聚集成群,治愈后可恢复有规则的分布。

真皮乳头与表皮的突起部分(即表皮突)互相镶


免疫细胞化学技术将有助于进一步了解众多皮肤病中LC数量或密度的改变,同时也将加深对LC本身表面标记的全面认识,从而有助于全面认识LC的功能特点以及与淋巴细胞、角朊细胞及肥大细胞等细胞成分的相互影响。

真皮乳头与表皮的突起部分(即表皮突)互相镶


真皮与表皮交界不平。真皮乳头与表皮的突起部分(即表皮突)互相镶接。

(一)基底膜带(basementmembrane zone, BMZ)的结构

基底膜带位于表皮真皮连结处,用PAS染色光学显微镜下所见为0.5~1μm厚的均匀一致的紫红色带,称为表皮下基底膜带。

1.BMZ的超威结构在电镜下观察,BMZ由表皮侧至真皮侧可分为四层结构:

(1)基底细胞的胞浆膜(plasmamembrane)及膜内侧的半桥粒(hemi – desmosome)。

真皮乳头与表皮的突起部分(即表皮突)互相镶


(2)透明板(透明带,laminalucida),位于胞浆膜下方,约35~40nm厚,其中包括基底层下致密板,为7~9nm厚的电子致密片,距胞浆膜约10nm;锚丝(anchoring filament, 直径约5~7nm)从半桥粒穿过基层下致密板而固定于致密板上。

(3)致密板(laminadensa):厚约80~200nm,又分为三层:①内层,厚10~20nm,电子密度低;②中层,厚约50~150nm,电子密度高,即狭义的基板(basal lamina);③外层:厚10~20nm,电子密度低。




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