欧界丨上海微电子28纳米和14纳米光刻机有新进展

作者：王韵壹、李英、熊慧卿

　　欧界报道：

　　在国产半导体企业的不断探索下，“中国芯”的研发步伐越来越快，但要想真正实现芯片国产化，我国半导体企业还有很长的路要走。众所周知，光刻机是实现芯片制造的关键设备，所以突破芯片国产化，首先要先实现芯片制造设备的国产化，即实现光刻机的国产化。

　　目前全球最先进的光刻机设备来自于荷兰ASML，这家企业占据了全球光刻机市场的大部分市场份额，由其研发的最先进的EUV光刻机在市场上更是备受青睐，这款光刻机是实现先进工艺芯片量产的关键。然而，受某些因素影响，我国半导体企业始终无法从ASML手中订购EUV光刻机，而这也成为了中芯国际无法实现7nm芯片量产的重要原因。

　　事实上，除了先进的EUV光刻机，我国生产28nm和14nm芯片的光刻机还是高度依赖进口。28nm和14nm是我国的成熟工艺，目前国内芯片制造商均已实现量产，并且在良品率方面有一定的保障，此前就曾有消息称中芯国际14nm芯片的良品率已经追上了台积电，达到了国际标准水平。但是，用于量产28nm和14nm芯片的光刻机设备，我国还是需要从国外进口。

　　实现半导体设备国产化和芯片国产化成为了中国半导体企业最大的愿望，值得一提的是，在光刻机领域我国已经实现了突破性进展，最近又传来了国产28纳米和14纳米光刻机的最新进展，有消息透露称这两款国产光刻机即将交付。对处于缺芯困境的中国半导体而言，这则消息令人激动。

　　国产28纳米和14纳米光刻机主要是由上海微电子设备公司研发的，这家企业称得上是我国光刻机设备领域的领头羊，目前上海微电子已经实现了90nm制程光刻机的量产，实力不容小觑。

　　对于先进光刻机的研发，上海微电子从不止步，早在去年就有消息称上海微电子将在今年上半年推出用于生产28nm芯片的光刻机，并将它交由中芯国际测试。虽然到目前为止，上海微电子也还没有向市场推出用于生产28nm芯片的光刻机，但据业内最新消息透露，其实上海微电子的28nm和14nm光刻机已经造出来了，只是在成品率方面还没有达到预期，还有很大的成长空间，因此该设备还处于改进阶段。这么看来，28nm和14nm光刻机距离面世也不远了。

　　研发光刻机并不是一件简单的事，上海微电子能取得今天的成就其实已经很成功了。虽然在光刻机领域我国和国际水平还有很大的差距，但并不能凭借这项技术否定我国的半导体制造实力，比如在刻蚀机领域我国就可以称得上是国际顶尖水平。

　　中微半导体是我国的刻蚀机龙头，目前这家半导体厂商已经完全实现了用于生产14nm和28nm芯片的刻蚀机，这两款设备是中微半导体主要销售的产品。此外，中微半导体还在用于生产5nm芯片的刻蚀机方面取得了重大突破，并且得到了台积电的认可和支持。

　　从这些成就可以看出，我国半导体企业的实力并不弱，相信随着国内企业的不断探索，中国半导体还将实现更大的突破，一起拭目以待!